CONTRACT MICROFABRICATION

微細加工・試作サービス

単一工程から複数プロセスを組み合わせた試作まで。構造、材料、寸法、面積、用途に合わせて加工方法を選定します。

SERVICES

対応する加工技術

各ページに加工方法、対応内容、代表的な条件と加工例を掲載しています。仕様が未確定の場合は研究開発支援をご利用ください。

電子ビーム描画による立体微細構造NANO PATTERNING

電子ビーム描画

微細パターンの描画条件を個別に検討。CAD設計、レジスト選定、近接効果補正、現像まで。

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六角形マイクロレンズアレイMICRO / 3D PATTERNING

レーザー直接描画

2Dは最小寸法1μm、3Dは最小寸法10μm・高さ40μm以下。最大□400mmに対応。

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高速特殊レーザー描画によるNi電鋳PillarパターンNANO / HIGH-DENSITY

高速特殊レーザーによる
ナノ・高密度描画

SiO₂膜付きSiウェハへ最大φ140mmのパターン形成に対応。最小φ100nm、L/S 250nmの微細構造やWaveパターンを形成します。

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Siモスアイ状高アスペクト微細構造SILICON PROCESS

Siエッチング

Si基板の微細パターン形成・深掘り。描画、成膜と組み合わせ可能。

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SiO₂微細ドットアレイSiO₂ NANOFABRICATION

SiO₂微細加工

SiO₂基板へのナノ/マイクロパターン形成。

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フォトリソグラフィに用いるフォトマスクとウェハPHOTOLITHOGRAPHY

フォトリソグラフィ

i線ステッパ、コンタクト露光、マスクレス露光を用途に応じて選定。

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ナノインプリント用金型一式PLATING / ELECTROFORMING

めっき・電鋳

Cu、Al、AuSn、Auめっき、Ni電鋳。微細パターンの複製にも。

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高精度金型と加工部品ULTRA PRECISION MACHINING

超微細機械加工

最小形状50nm、ピッチ1μm以下、Ra10nm以下の表面仕上げ実績。

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ロール成型とフィルムサンプルMOLDING

成型プロセス検討

ナノインプリント、射出成型、ロール成型を見据えた試作・工程検討。

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EQUIPMENT NETWORK

利用可能設備

リソグラフィ、エッチング、成膜、観察・測定、機械加工設備。

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CONTACT

仕様確認から加工方法をご提案します。

図面・GDSデータ、材料、希望寸法、数量、希望時期をお知らせください。