装置はある、条件が出ない
レジスト選定、近接効果補正、露光・現像・エッチング条件を検証し、再現可能な条件を確定します。
R&D SUPPORT
微細加工の研究開発を、
方法選定から技術移管まで。
装置はあるが条件が出ない、加工方法を選べない、社内で再現できる体制をつくりたい。目的と現在の検討状況を確認し、必要な工程と成果物を明確にして支援します。
対象企業・大学・公的研究機関
支援範囲装置・プロセス選定 / 実験 / 条件出し / 技術移管
支援方法実験代行・現地・オンライン
CHALLENGES
課題が明確でない
段階からご相談
いただけます。
使う装置を決められない
希望する形状、材料、加工領域、必要精度から、大学・公的研究機関の共用設備を含め、最適な設備と工程を選定します。
実験を進める人手が足りない
選定した設備を用いた実験を代行し、結果と次の判断材料をレポートとしてまとめます。
自分たちで再現したい
現地作業とオンライン支援を通じ、プロセスレシピと運用ノウハウを技術移管します。
SUPPORT MODEL
研究課題と共用設備をつなぎ、
プロセス開発を前へ進めます。
Bush Cloverがお客様の研究課題と目標を明確にし、大学・公的研究機関の共用設備を活用してプロセス開発・最適条件探索を実施。得られた研究成果を報告書やデータとしてフィードバックします。
- お客様「これを作りたい」
から相談共用設備の利用資格や経験は不要です - Bush Cloverヒアリングと
設備の選定全国の大学・公的研究機関の共用設備から、最適な装置を選定 - Bush Clover ＋ お客様共同研究契約と
利用申請の手続き課題申請の手続きを Bush Clover が取りまとめ - Bush Clover共用設備で
プロセス開発実験を代行し、再現できる条件を確定 - Bush Clover → お客様成果の納品と
技術移管報告書・データ・レシピ、現地支援・オンライン支援
※ 共用設備の利用は、お客様と Bush Clover の共同研究課題として進めます。
PROJECT EXAMPLES
研究開発支援の実績例
量子・半導体・フォトニクス・バイオなど、分野ごとの研究課題に合わせて、プロセス設計・試作・評価を支援しています。
- 半導体SOT-MRAMの開発支援スピン軌道トルクによる次世代不揮発性メモリの開発を支援
- 量子Si量子ビットの研究支援シリコン量子ビットの設計から低温評価までを支援
- フォトニクスメタレンズ作製のための露光シミュレーション位相制御メタレンズの露光プロセスを高精度に最適化
- フォトニクスガス検出のための赤外分光メタマテリアルの作製赤外分光メタマテリアルによる高感度ガス検出デバイスの開発
- フォトニクスフォトニック結晶デバイスの試作高効率・高機能な光制御デバイスの設計・試作を支援
- フォトニクス光回路用3次元ミラー作製プロセス支援高精度3次元ミラーの加工・計測・評価をプロセス面からトータルサポート
- バイオ細胞培養用微細構造の作製手法の開発細胞の挙動を制御する微細構造の設計・作製を支援
- 半導体EUVレジストの評価化学分析・感度評価・パターン評価でEUVレジスト材料の性能を評価
SCOPE & DELIVERABLES
支援内容と成果物
発注・稟議に必要な「何を行い、何が納品されるか」を明確にします。
| 段階 | 実施内容 / 成果物 |
|---|---|
| 設備・プロセスの選定 | 目的に対して最適な装置と工程を選定。 成果物：提案書 |
| 実験代行 | 選定設備で実験を行い、結果を評価。 成果物：実験結果レポート |
| プロセス構築・条件出し | 条件を振り、再現可能な条件を確定し課題を抽出。 成果物：プロセスレシピ |
| 現地支援・技術移管 | 再現方法とノウハウを現地で共有。オンライン継続支援にも対応。 成果物：現地作業 / オンライン支援 |
PROCESS
ご相談から支援まで
課題・目標の確認
構造、材料、寸法、用途、現在の設備や条件、希望時期を伺います。秘密保持契約のご相談も可能です。
支援範囲と計画の提案
必要な設備、工程、評価方法、成果物、期間、費用を検討した支援計画をご提案します。
実験・条件出し
合意した計画に沿って実験し、途中結果を共有しながら条件を絞り込みます。
結果の納品・技術移管
レポートやレシピを納品し、必要に応じて現地・オンラインで再現を支援します。
期間・費用は加工内容と設備利用状況により変わります。まずは目標、材料、希望寸法、希望時期をお知らせください。
CONTACT
検討の初期段階から、
ご相談ください。
相談内容を確認し、適した技術担当者からご連絡します。