01お客様の課題
精度を上げると、面積・形状・コストとの両立が難しくなる。
ナノレベルの精度、大面積への均一な形成、複雑な立体形状、現実的な加工時間とコスト。微細加工では、一つの技術だけですべての条件を満たせないことが少なくありません。
OUR COMPETITIVE EDGE
技術の限界を、
事業の可能性へ。
必要なのは、装置や加工法を一つ選ぶことではなく、実現したい価値から技術を組み立てること。Bush Cloverは、微細加工の知見と社外ネットワークを活かし、試作・用途評価から事業化を見据えた次の検討まで支援します。
01ナノから大面積まで対応する
INTEGRATED MICROFABRICATION
ナノから大面積まで対応する
複合微細加工力
02Bush Cloverの解決方法
目的から逆算し、
複数の加工法を一つの
プロセスに編成します。
電子ビーム描画、レーザー直接描画、高速特殊レーザー、エッチング、電鋳、超微細機械加工、成型などを組み合わせます。要求精度、加工面積、材料、形状、数量、コストを整理し、試作と後工程まで見据えたプロセスを設計します。
03お客様が得られる価値
加工法の制約に縛られず、
実現したい機能を起点に
開発できる。
技術ごとに相談先を探し、工程間の整合を取り直す負担を減らせます。性能・面積・コストのバランスを整理し、検討の手戻りを抑え、試作に関する判断を進めやすくします。
02アライアンスを活用した
TECHNOLOGY NETWORK
アライアンスを活用した
技術プロデュース力
01お客様の課題
必要な設備や条件が分からず、
検証を始める前に
時間がかかる。
社内設備だけでは試せない、候補装置が多く選定できない、共用設備を使いたいが条件出しの経験がない。装置の探索と実験準備そのものが、研究開発のボトルネックになります。
02Bush Cloverの解決方法
設備・人・知見をつなぎ、検証に必要な体制を組み立てます。
大学・公的研究機関・装置メーカーとのアライアンスネットワークを活用し、目的に適した設備とプロセスを選定します。実験代行、条件出し、試作、評価、レポート作成、技術移管まで、開発段階に合わせて一貫して支援します。
03お客様が得られる価値
設備投資前に、目的に適した環境で比較可能な判断材料を得られる。
複数機関との調整や装置ごとの立ち上げ負担を抑えながら、比較可能な試作・評価結果を得られます。導入設備の選定や内製化の判断にも使える知見が残り、次の開発を自社で進めやすくなります。
EXTERNAL RECOGNITION
外部機関での
講師・登壇実績
電子ビーム描画やグレースケール露光を中心に、大学・研究機関・学会で技術講演を行っています。
- 01Optics & Photonics Japan 2025「光学素子実現のための微細加工技術の紹介とEBリソグラフィのスループット向上へのアプローチ」
- 02AIST 電子ビームリソグラフィセミナーⅥ電子ビームリソグラフィに関する専門技術セミナー
- 03NIMS 第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー量子・電子マテリアル領域における技術講演
03研究から事業化を見据えた
FROM RESEARCH TO APPLICATION
研究から事業化を見据えた
実装支援力
01お客様の課題
研究室でできた試作を、
次の検討段階へ
どうつなぐか分からない。
原理実証に成功しても、面積、材料、耐久性、再現性、加工時間、コストなど、事業化に向けて確認すべき条件が増えます。研究条件のままでは、用途評価や生産方法の検討に必要な判断材料が不足します。
02Bush Cloverの解決方法
用途評価に必要な実物を作り、次の検証項目をご提案します。
光学、半導体、電子デバイス、MEMS、医療・バイオなどの用途を踏まえ、まずは原版・金型や評価用サンプルの試作を支援します。将来の事業展開に向けては、ナノインプリント、射出成型、ロール成型などの候補工程を視野に入れ、技術課題と確認項目を段階的に明確にします。
03お客様が得られる価値
事業化に向けた次の判断を、具体的な試作結果に基づいて進められる。
用途評価に使えるサンプルと、寸法・材料・再現性などの検証結果を得られます。事業化を確約するものではありませんが、追加検証、設備選定、外部連携など、次の段階へ進むための論点が明確になります。
事業化に向けた工程検討については、試作結果をもとに必要な工程・設備・連携先を選定し、実現可能性を段階的に検討します。継続的な製造対応の可否は、仕様・数量・品質条件に応じて個別に確認します。
CONTACT
目標をもとに、
技術要件と検証方法をご提案します。
目標とする機能、サイズ、材料、数量、時期をお聞かせください。技術と事業の両面から、次に検証すべきことをご提案します。