AVAILABLE EQUIPMENT
利用可能設備
大学・公的研究機関・装置メーカーとのアライアンスネットワークを活用し、目的と工程に適した設備を選定します。特定の設備に限定されず、必要な構造・目的に応じたプロセスをご提案します。
リソグラフィ
- 電子ビーム描画装置
- i線露光装置
- マスクレス露光装置
- レーザー描画装置
- 干渉露光装置
- 高速描画装置
- 近接効果補正システム
エッチング・成膜
- 電子ビーム蒸着装置（Ti、Cr、Al、Au、Pt）
- スパッタ成膜装置（Ni、Ag）
- 原子層堆積装置
- Si深掘りエッチング装置
- プラズマドライエッチング装置
- リアクティブイオンエッチング装置
- SiO₂犠牲層ドライエッチング装置
- めっき（Cu、Al、AuSn、Au） / Ni電鋳
観察・測定
- 電界放出形走査電子顕微鏡（SEM）
- 透過型電子顕微鏡（TEM）
- 原子間力顕微鏡（AFM）
- 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）
- 光学顕微鏡 / 短波長レーザー顕微鏡
- 触針式段差計
- X線回折装置 / X線光電子分光分析装置
機械・成型・切断
- 型彫放電加工 / ワイヤー放電加工
- 金属3Dプリンター / 切削加工 / ロール加工
- ダイシングソー / レーザーダイシング
- ナノインプリント
- 射出成型 / ロール成型
- UVオゾン / 電解洗浄 / 有機洗浄 / 酸洗浄
CONTACT
設備選定から相談する
必要な性能や装置名が不明でも、目標構造に適した設備をご提案します。