SiO₂の
ナノ／マイクロ微細加工

SiO₂基板へのパターン形成を、描画、マスク形成、エッチング、成膜、観察・測定まで含めて検討します。

対象材料SiO₂

パターン領域ナノ〜マイクロ

対応試作 / 条件出し / 受託

CAPABILITY

材料と用途に合わせた
複合プロセス

パターン形成	電子ビーム描画、フォトリソグラフィ、マスクレス露光
加工・成膜	プラズマドライエッチング、リアクティブイオンエッチング、EB蒸着、スパッタ、原子層堆積
観察・測定	SEM、TEM、AFM、FIB、段差計、光学顕微鏡等
代表用途	光学素子、微細ドットアレイ、バイオ・センシング、マイクロ流路、研究用試験片

加工例として、SiO₂上にφ30nm、ピッチ50nm、高さ30nmの微細ドットアレイ実績があります。個別の可否は基板仕様、面積、構造、後工程から確認します。

INFORMATION NEEDED

SiO₂基板の種類、サイズ・厚さ、表面状態、支給または調達の希望。

最小寸法、ピッチ、深さ・高さ、面積、配置データ。

透過、回折、濡れ性、センシングなど、構造に求める機能。

必要な測定、観察像、数量、納期、後工程の有無。

PROCESS IMAGE

微細寸法と周期性が分かるSEM像を、加工条件とともに掲載しています。

CONTACT

図面やイメージ段階でも、目標構造から工程を検討します。