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第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー

hiroya

更新日:2022年12月1日

サブタイトル:電子ビーム・レーザー描画技術

      ~グレースケール露光による3次元構造物の作製~


弊社は下記内容にて講演させて頂きます。

 講演名:電子線描画による三次元構造作成技術 

 講演者:新関 嵩


【概要】 電子ビーム・レーザーリソグラフィの基本概念や近接効果補正による

     描画データ最適化の講演に加え、3次元構造物の作製事例についてもご紹介

     いたします。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちして

     おります。

【セミナー日時】 2023年1月25日(水)13:30~15:30

【ウェビナー配信】 Microsoft Teamsによるオンライン

【参加費】 無料

【定員】 100名(先着順、参加登録をお願いします)

【主催・共催・協賛】

 【主催】物質・材料研究機構 ARIMインフラ共用チーム

 【主催】産業技術総合研究所TIA推進センターナノプロセシング施設(NPF)

 【主催】東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所

 【主催】北海道大学 創成研究機構 ナノテクノロジー連携研究推進室

 【共催】GenISys株式会社

 【共催】Bush Clover株式会社

 【共催】TIA

 【協賛】TSCナノエレクトロニクス計測分析技術研究会



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