第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー
- hiroya
- 2022年11月30日
- 読了時間: 1分
更新日：2022年12月1日
サブタイトル：電子ビーム・レーザー描画技術
～グレースケール露光による3次元構造物の作製～
弊社は下記内容にて講演させて頂きます。
講演名：電子線描画による三次元構造作成技術
講演者：新関 嵩
【概要】 電子ビーム・レーザーリソグラフィの基本概念や近接効果補正による
描画データ最適化の講演に加え、3次元構造物の作製事例についてもご紹介
いたします。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちして
おります。
【セミナー日時】 2023年1月25日（水）13:30～15:30
【ウェビナー配信】 Microsoft Teamsによるオンライン
【参加費】 無料
【定員】 100名（先着順、参加登録をお願いします）
【主催・共催・協賛】
【主催】物質・材料研究機構 ARIMインフラ共用チーム
【主催】産業技術総合研究所TIA推進センターナノプロセシング施設（NPF）
【主催】東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【主催】北海道大学 創成研究機構 ナノテクノロジー連携研究推進室
【共催】GenISys株式会社
【共催】Bush Clover株式会社
【共催】TIA
【協賛】TSCナノエレクトロニクス計測分析技術研究会
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