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Bush Clover 独自の技術アライアンス
Available Equipments. ~利用可能装置一覧~
〈リソグラフィ〉
電子ビーム描画
i 線露光装置
マスクレス露光装置
レーザー描画装置
干渉露光装置
高速描画装置
近接効果補正システム
〈エッチング・成膜装置〉
電子ビーム蒸着装置(Ti , Cr , Al , Au , Pt)
スパッタ成膜装置(Ni , Ag)
原子層堆積装置
Si深堀エッチング装置
プラズマドライエッチング装置
リアクティブイオンエッチング装置
シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチング装置
めっき(Cu , Al , AuSn , Au)
Ni電鋳
〈観察・測定装置〉
電界放出形走査電子顕微鏡(SEM)
透過型電子顕微鏡(TEM)
原子間力顕微鏡(AFM)
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
光学顕微鏡
短波長レーザー顕微鏡
触診式段差計
マクロ検査装置
四深針プローブ抵抗測定装置
X線回折装置
X線光電子分光分析装置
〈機械加工〉
型彫放電加工
ワイヤー放電加工
金属3Dプリンター
切削加工
ロール加工
〈切断〉
ダイシングソー
レーザーダイシング装置
〈成型加工〉
ナノインプリント
射出成型
ロール成型
〈表面改質装置〉
UVオゾン
電解洗浄
有機洗浄
酸洗浄(ピラニア)
etc.
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