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Bush Clover 独自の技術アライアンス

EBlithography.jpg

電子ビーム(EB)描画

Wave pattern-02.tif

​φ8inナノスケール描画

IMG_7302_edited.png

超微細機械加工

再帰反射形状.jpg

レーザー描画

motheye_i008.jpg

​複合技術によるプロセス開発

IMG_5908.JPG

成型受託加工

Available Equipments. ~利用可能装置一覧~

〈リソグラフィ〉
 電子ビーム描画
 i 線露光装置
 マスクレス露光装置
 レーザー描画装置
 干渉露光装置
 高速描画装置
 近接効果補正システム

​〈エッチング・成膜装置〉
 電子ビーム蒸着装置(Ti , Cr , Al , Au , Pt)
 スパッタ成膜装置(Ni , Ag)
 原子層堆積装置
 Si深堀エッチング装置
 プラズマドライエッチング装置
 リアクティブイオンエッチング装置
 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチング装置
 めっき(Cu , Al , AuSn , Au)
​ Ni電鋳

〈観察・測定装置〉
 電界放出形走査電子顕微鏡(SEM)
 透過型電子顕微鏡(TEM)
 原子間力顕微鏡(AFM)
 集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
 光学顕微鏡
 短波長レーザー顕微鏡
 触診式段差計
 マクロ検査装置
 四深針プローブ抵抗測定装置
 X線回折装置
 X線光電子分光分析装置
 

〈機械加工〉
 型彫放電加工
 ワイヤー放電加工
 金属3Dプリンター
 切削加工
 ロール加工

〈切断〉
 ダイシングソー
​ レーザーダイシング装置


​〈成型加工〉
 ナノインプリント
 射出成型
 ロール成型

〈表面改質装置〉
 UVオゾン
 電解洗浄
 有機洗浄
​ 酸洗浄(ピラニア)

​ etc.

​©2022 Bush Clover Inc. All rights are reserved.
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