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Electron Beam Lithography
世界トップクラスの微細加工技術

■DOE (Diffractive Optical Element)

■Blazed Gratingパターン
人間が使える最も小さな加工ツールが、フィラメント から放出される熱電子を高電圧で加速し、φ数nm という極限まで細く絞った電子ビームです。
100kV以上の高加速電圧で最小描画線幅5nmの 極細線描画が可能なトップエンドモデルから、大面 積の描画に対応した高スループットモデルを用いた 幅広い電子ビーム描画プロセスをご提案します。
豊富なアプリケーション力を武器に、2次元図形の みならず、多階調のホログラムやブレーズドグレーテ ィングパターンなど多彩なレジストパターンを描画可 能ですので、電子/光学/バイオデバイス/MEMSの 研究開発・生産や、ナノインプリントモールドの作成 など多用途に利用可能です。
■ トータルでのご提案
EB描画は一般的に利用のハードルが高いと言われ ていますが、Bush CloverではEB描画のオペレーシ ョンのみならず、CAD設計、レジスト選定、現像等の EB描画にかかわるすべての工程を熟知したエンジ ニアが対応いたします。
■ 加工事例
8階調のDOEパターンを、エッチング無しで作成可 能。0次光(DOEに入射した光のうち、回折せずにそ のまま抜ける光成分)が無くロスが少ないDOEパタ ーンを製作可能です。
また、3D描画技術を駆使してブレーズドグレーティ ングのような傾斜形状も自在に製作可能。BMP等の 画像データからパターニングする事もできます。また 3DレジストパターンへNi電鋳処理を行うことでナノ インプリント用モールドが作製できます。
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