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Advanced Complex Technology
高度な複合技術による新プロセス開発
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■高AR構造
■モスアイパターン
■ワイヤーグリッド
Bush Clover では、技術アライアンス企業と共に開 発した高度な加工技術の粋を結集し、新しいプロセ スを開発しご提供いたします。
電子ビーム描画、レーザー直接描画、フォトリソグラ フィ等の技術で製作した微細なレジスト(樹脂)パタ ーンはそのままでは脆弱なため、製品として使用する ことができません。
Bush Clover では、ドライエッチングやNi電鋳、リフ トオフなどの技術を複合的に利用することでレジスト パターンをマスクとしたパターン転写や別材料への パターン複製が可能。あらゆる構造への柔軟なご提 案が可能となりました。
弊社独自の技術により電子ビーム描画で製作され た100nm以下の微細レジストパターンからも、形状 の変化を最小限に抑えたNi電鋳技術により精巧な ナノインプリントモールドが製作可能です。
電子ビーム描画やレーザー描画とドライエッチング を組み合わせることで、ハイアスペクト比のモスアイ パターンや、ワイヤーグリッドパターンも製作実績が ございます。 お客様の用途に合わせて、Pitch/Heightを調整する 事が出来ますので、他社では不可能な世界でただ一 つの製品を生み出す事が可能となります。試作から 本格的な生産まで是非お気軽にご相談ください。
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