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LASER Direct Writing

最先端のレーザー直接描画技術

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■MLA(マイクロレンズアレイ)

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■リトロリフレクター(再帰反射形状)

レーザー直描装置は、レーザーを光源としフォトマ スクを用いずレジストに直接パターニング可能な装 置です。電子ビーム描画装置は1um以下の極細線 を得意とする一方で大面積描画が不得意ですが、レ ーザー描画装置は描画スケールとスループットのバ ランスがよく、概ね1um以上の微細パターンを最大 □400㎜の高領域に高速描画可能です。

 

またレーザー描画装置は、二次元の高精細パター ンに加え、特殊露光モードによりグレースケールリソ グラフィとして知られている三次元構造向けの厚膜 フォトレジストを用いる事で深さ50umまでの構造を 作製可能です。

 

この技術を用いる事で、今まで機械加工等で製作す る際に問題となっていた、垂直部分のRを極限まで 減らすことができるとともに、工具が入らない狭ピッ チ形状の作成も可能となりました。

 

弊社で利用可能な装置は、レーザー直描装置の草 分け的存在であるドイツ・ハイデルベルグ社の最先 端のレーザー直描装置です。

■ 加工事例

レーザー直描を用いる事でマイクロレンズアレイはレ ンズのサイズを数十umまで小型化でき、更にレンズ の大きさや配置を自由に設計できるため、光学シミ ュレーションで得られた理想のデザインに限りなく 近い構造を実現できます。

マイクロ流路はこれまで二次元構造が主流でしたが グレースケール描画により三次元構造を製作可能 に。数umオーダーのピラーやホール、溝などを立体 的に配置できるため、設計者のアイディアを自由に形 にできるようになりました。

​再帰反射形状
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材質:レジスト, Ni, Cu等

寸法:Pitch 30um / H 15um

​パターンエリア:□150mm以上

レーザー描画において、レーザー強度の 局所的な補
正を行うことにより再帰反射形状を製作できます。

数マイクロから数十マイクロオーダーの微細パターンを大面積に作製可能です。

2022 年 6 月より受託加工を開始いたしました。

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材質:レジスト, Ni等

寸法:Radius 15um / Depth 15um

【ご提供:国立研究開発法人 物質・材料研究機構】

レーザー描画の技術を用いて、曲面を有しているレンズ形状を作製できます。
作製したいレンズ形状をご相談して頂ければ、凹形状・凸形状どちらも対応いたします。
2022年6月より受託加工を開始いたしました。

マイクロレンズアレイ
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