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LASER Direct Writing
最先端のレーザー直接描画技術
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■MLA(マイクロレンズアレイ)
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■リトロリフレクター(再帰反射形状)
レーザー直描装置は、レーザーを光源としフォトマ スクを用いずレジストに直接パターニング可能な装 置です。電子ビーム描画装置は1um以下の極細線 を得意とする一方で大面積描画が不得意ですが、レ ーザー描画装置は描画スケールとスループットのバ ランスがよく、概ね1um以上の微細パターンを最大 □400㎜の高領域に高速描画可能です。
またレーザー描画装置は、二次元の高精細パター ンに加え、特殊露光モードによりグレースケールリソ グラフィとして知られている三次元構造向けの厚膜 フォトレジストを用いる事で深さ50umまでの構造を 作製可能です。
この技術を用いる事で、今まで機械加工等で製作す る際に問題となっていた、垂直部分のRを極限まで 減らすことができるとともに、工具が入らない狭ピッ チ形状の作成も可能となりました。
弊社で利用可能な装置は、レーザー直描装置の草 分け的存在であるドイツ・ハイデルベルグ社の最先 端のレーザー直描装置です。
■ 加工事例
レーザー直描を用いる事でマイクロレンズアレイはレ ンズのサイズを数十umまで小型化でき、更にレンズ の大きさや配置を自由に設計できるため、光学シミ ュレーションで得られた理想のデザインに限りなく 近い構造を実現できます。
マイクロ流路はこれまで二次元構造が主流でしたが グレースケール描画により三次元構造を製作可能 に。数umオーダーのピラーやホール、溝などを立体 的に配置できるため、設計者のアイディアを自由に形 にできるようになりました。
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